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液晶高分子化合物及びリソグラフィー用フォトマスク[ja]
被引：0
申请号：
JP20110513332
申请日：
2010-05-10
公开(公告)号：
JPWO2010131632A1
公开(公告)日：
2012-11-01
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C08F20/36
IPC分类号：
H01L21/027
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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