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イリジウム錯体及び光学活性化合物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110187741
申请日
:
2011-08-30
公开(公告)号
:
JP5762887B2
公开(公告)日
:
2015-08-12
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07F15/00
IPC分类号
:
B01J31/24
C07D215/06
C07F9/50
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
イリジウム錯体化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7409428B2
,2024-01-09
[2]
イリジウム錯体化合物の製造方法[ja]
[P].
ITO HAJIME
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HOKKAIDO UNIV
HOKKAIDO UNIV
ITO HAJIME
;
KUBOTA KOJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HOKKAIDO UNIV
HOKKAIDO UNIV
KUBOTA KOJI
;
AGATA RYOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HOKKAIDO UNIV
HOKKAIDO UNIV
AGATA RYOSUKE
.
日本专利
:JP2024046293A
,2024-04-03
[3]
ルテニウム−ジアミン錯体及び光学活性化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5718178B2
,2015-05-13
[4]
イリジウム錯体化合物の製造方法、及びその製造方法で得られたイリジウム錯体化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6344003B2
,2018-06-20
[5]
イリジウム錯体化合物の製造方法、及びその製造方法で得られたイリジウム錯体化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6566085B2
,2019-08-28
[6]
ルテニウム−ジアミン錯体および光学活性化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012153684A1
,2014-07-31
[7]
イリジウム化合物及び該イリジウム化合物を用いたイリジウム錯体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6570037B2
,2019-09-04
[8]
イリジウム錯体化合物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020145294A1
,2021-11-18
[9]
イリジウム錯体化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP7494737B2
,2024-06-04
[10]
イリジウム錯体、化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6294535B2
,2018-03-14
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