一酸化炭素高含有ガス生成物を製造するための方法及び設備[ja]

被引：0

申请号：

JP20210575430

申请日：

2020-09-22

公开(公告)号：

JP2022552039A

公开(公告)日：

2022-12-15

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01D53/047

IPC分类号：

B01D53/22 C25B1/23 C25B9/00

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共 50 条

[1]

一酸化炭素含有ガス生成物の製造方法及びシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2020525641A ,2020-08-27

[2]

一酸化炭素含有ガス生成物の製造方法及びシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2020524212A ,2020-08-13

[3]

生成物を製造するための生産設備及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024527843A ,2024-07-26

[4]

水素、一酸化炭素及び炭素含有生成物の並行製造[ja] [P].

日本专利 :JP2016501823A ,2016-01-21

[5]

水素、一酸化炭素及び炭素含有生成物の並行製造[ja] [P].

日本专利 :JP6479677B2 ,2019-03-06

[6]

合成反応に使用するための一酸化炭素および二酸化炭素を含むガス混合物を生成するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021521329A ,2021-08-26

[7]

ガス状生成物を得るための装置およびガス状生成物を得るための方法[ja] [P].

YOKOYAMA KOICHI ;

IMADA NORIYUKI ;

SASAKI GOKI .

日本专利 :JP2025019091A ,2025-02-06

[8]

ガス状生成物を得るための装置およびガス状生成物を得るための方法[ja] [P].

日本专利 :JP7467192B2 ,2024-04-15

[9]

ガス状炭素含有反応物を固体炭素生成物に変換するための反応器及び関連する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025511432A ,2025-04-16

[10]

合成ガスを製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021507032A ,2021-02-22

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