炭素化合物の製造装置及び炭素化合物の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210035531

申请日：

2021-03-05

公开(公告)号：

JP7265571B2

公开(公告)日：

2023-04-26

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C213/04

IPC分类号：

C01B32/50 C01C1/04 C07C29/10 C07C31/20 C07C215/08 C25B3/03 C25B9/00

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共 50 条

[1]

炭素化合物及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7613728B2 ,2025-01-15

[2]

炭素化合物材、炭素化合物材を含む炭素貯留材、及び炭素化合物材の製造方法[ja] [P].

JOBOJI TORU ;

NAGANO MAKI .

日本专利 :JP2025079599A ,2025-05-22

[3]

化合物、化合物の製造方法、及び化合物の精製方法[ja] [P].

日本专利 :JP5740042B2 ,2015-06-24

[4]

化合物、化合物の製造方法、及び化合物の精製方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013137075A1 ,2015-08-03

[5]

化合物、及び、化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7457314B2 ,2024-03-28

[6]

化合物、化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020153121A1 ,2021-11-18

[7]

二酸化炭素処理装置及び炭素化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7176027B2 ,2022-11-21

[8]

化合物及び該化合物の製造方法[ja] [P].

ESAKI VAIDAS ;

TAKAISHI YU ;

HARA HISAFUMI ;

INOUE YOSHIAKI .

日本专利 :JP2025043276A ,2025-03-28

[9]

液晶化合物の製造方法及びその化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6728738B2 ,2020-07-22

[10]

液晶化合物の製造方法及びその化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6801245B2 ,2020-12-16

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