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不斉反応用触媒、及びそれを用いた光学活性化合物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20060510794
申请日
:
2005-03-09
公开(公告)号
:
JPWO2005084803A1
公开(公告)日
:
2007-11-29
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J31/22
IPC分类号
:
B01J31/26
C07B53/00
C07B61/00
C07C15/42
C07C213/04
C07C215/44
C07C221/00
C07C225/06
C07C227/12
C07C227/32
C07C229/18
C07C327/06
C07C327/22
C07D307/54
C07D333/24
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
反応装置及びそれを用いた化合物の製造方法[ja]
[P].
AMANO FUMIAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION
AMANO FUMIAKI
;
OKAZAKI TAKUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION
OKAZAKI TAKUYA
;
ENOMOTO KAZUMA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION
ENOMOTO KAZUMA
.
日本专利
:JP2025126596A
,2025-08-29
[2]
触媒、それを用いた化合物の製造方法及び化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6932293B1
,2021-09-08
[3]
触媒、及びそれを用いた化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7325688B1
,2023-08-14
[4]
触媒及びそれを用いた化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020013064A1
,2021-08-05
[5]
触媒及びそれを用いた化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7224351B2
,2023-02-17
[6]
触媒、及びそれを用いた化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7383202B2
,2023-11-17
[7]
触媒及びそれを用いた化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7649427B2
,2025-03-19
[8]
触媒及びそれを用いた化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7649426B2
,2025-03-19
[9]
アゼピン化合物またはその塩、不斉触媒、ならびに光学活性化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5749548B2
,2015-07-15
[10]
ビス−リン酸化合物及びそれを用いる不斉反応[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011111677A1
,2013-06-27
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