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画像計測方法、システム、装置およびプログラム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140554094
申请日
:
2013-12-03
公开(公告)号
:
JPWO2014103181A1
公开(公告)日
:
2017-01-12
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01N21/27
IPC分类号
:
G01J3/51
G06V10/145
G06V10/147
G06V10/25
G06V10/56
G06V10/60
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
測定装置および推定システム[ja]
[P].
TSUKANO KIYOHITO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
TSUKANO KIYOHITO
;
TAKENAKA KAZUMA
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
TAKENAKA KAZUMA
;
TERAO MINAKO
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
TERAO MINAKO
;
NOGUCHI NAOKI
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
NOGUCHI NAOKI
;
INAMURA KAZUHIKO
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
YOKOGAWA ELECTRIC CORP
INAMURA KAZUHIKO
.
日本专利
:JP2025125090A
,2025-08-27
[2]
投影装置、投影方法および投影制御プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018012524A1
,2019-06-27
[3]
配光制御装置、配光制御プログラムおよび車両用前照灯システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2025153070A
,2025-10-10
[4]
電磁界分布計算方法、電磁界分布計算装置、および磁界分布計算プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007043160A1
,2009-04-16
[5]
電磁場解析装置、電磁場解析方法、およびプログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP6206608B1
,2017-10-04
[6]
ホログラム光学素子の製造装置、ホログラム光学素子の製造方法およびホログラム光学素子[ja]
[P].
MASE KENICHIRO
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
PANASONIC IP MAN CORP
PANASONIC IP MAN CORP
MASE KENICHIRO
;
FUKUI KOJI
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0
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0
机构:
PANASONIC IP MAN CORP
PANASONIC IP MAN CORP
FUKUI KOJI
;
TAKADA KAZUMASA
论文数:
0
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机构:
PANASONIC IP MAN CORP
PANASONIC IP MAN CORP
TAKADA KAZUMASA
;
AGEMIZU WAHEI
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
PANASONIC IP MAN CORP
PANASONIC IP MAN CORP
AGEMIZU WAHEI
.
日本专利
:JP2024031622A
,2024-03-07
[7]
給電装置および非接触給電システム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019012372A1
,2020-07-02
[8]
情報処理装置及びプログラム[ja]
[P].
HARIGAI JUNGO
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP
FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP
HARIGAI JUNGO
;
UNO YOSHIO
论文数:
0
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0
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机构:
FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP
FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP
UNO YOSHIO
;
KUWATA YOSHITAKA
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP
FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP
KUWATA YOSHITAKA
.
日本专利
:JP2024025926A
,2024-02-28
[9]
照明装置、パターン照射装置およびシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP6024841B1
,2016-11-16
[10]
予測装置および予測方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025140159A
,2025-09-29
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