光学活性１−ブロモ−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］エタンの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20120525419

申请日：

2011-07-21

公开(公告)号：

JPWO2012011516A1

公开(公告)日：

2013-09-09

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C17/16

IPC分类号：

C07B53/00 C07C22/08

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共 50 条

[1]

光学活性１−ブロモ−１−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］エタンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5793143B2 ,2015-10-14

[2]

５−［２−［７−（トリフルオロメチル）−５−［４−（トリフルオロメチル）フェニル］ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン−３−イル］エチニル］−２−ピリジンアミンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2014532058A ,2014-12-04

[3]

ジフルオロメタンビス（スルホニルフルオリド）の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008111588A1 ,2010-06-24

[4]

化合物Ｎ−（３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ’−（２−トリフルオロメチルフェニル）グアニジンの調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP6748188B2 ,2020-08-26

[5]

化合物Ｎ−（３，５−ジメチルフェニル）−Ｎ’−（２−トリフルオロメチルフェニル）グアニジンの調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018525393A ,2018-09-06

[6]

２−［５−［Ｎ−（４−フルオロフェニル）カルバモイル］ピリミジン−２−イルスルファニルメチル］−４−（トリフルオロメトキシ）フェニル」ボロン酸[ja] [P].

日本专利 :JP2016525573A ,2016-08-25

[7]

１−（３，５−ジクロロ−４−フルオロ−フェニル）−２，２，２−トリフルオロ−エタノンを調製するプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2017531004A ,2017-10-19

[8]

１−ブロモ−１−フルオロエチレン化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6596925B2 ,2019-10-30

[9]

光学活性な２−（２−フルオロビフェニル−４−イル）プロパン酸の製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017057642A1 ,2018-05-24

[10]

４−（トリフルオロメチルスルホニル）フェノール化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6696507B2 ,2020-05-20

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