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測定方法、測定装置、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170505613
申请日
:
2015-05-29
公开(公告)号
:
JP6496808B2
公开(公告)日
:
2019-04-10
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F9/00
IPC分类号
:
G01B11/00
G03F7/20
H01L21/68
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
測定方法、測定装置、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017528757A
,2017-09-28
[2]
位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015535954A
,2015-12-17
[3]
位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6095786B2
,2017-03-15
[4]
位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5992103B2
,2016-09-14
[5]
位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015525883A
,2015-09-07
[6]
偏光測定デバイス、リソグラフィ装置、測定構成体、及び偏光測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016509687A
,2016-03-31
[7]
測定システム、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6533004B2
,2019-06-19
[8]
測定システム、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018523842A
,2018-08-23
[9]
位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法並びに光学要素[ja]
[P].
日本专利
:JP5873212B2
,2016-03-01
[10]
位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法並びに光学要素[ja]
[P].
日本专利
:JP2015518654A
,2015-07-02
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