レジスト用重合体およびレジスト組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20050504741

申请日：

2004-01-29

公开(公告)号：

JPWO2004067592A1

公开(公告)日：

2006-05-18

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C08F220/10

IPC分类号：

C08F220/12 C08F220/28 C08F220/34 C08F224/00 G03F7/004 G03F7/039 H01L21/027

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共 50 条

[1]

重合体およびポジ型レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016132722A1 ,2017-11-30

[2]

重合体およびポジ型レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016132723A1 ,2017-11-30

[3]

重合体およびポジ型レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016132726A1 ,2017-11-30

[4]

重合体およびポジ型レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016132727A1 ,2017-11-30

[5]

重合体およびポジ型レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016132725A1 ,2017-11-30

[6]

レジスト用化合物およびレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006132139A1 ,2009-01-08

[7]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2018533060A ,2018-11-08

[8]

重合体およびポジ型レジスト組成物、並びに、レジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016132728A1 ,2017-11-30

[9]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

SCOTT LEWIS ;

RICHARD WINPENNY ;

STEPHEN YEATES ;

FERNANDEZ ANTONIO .

日本专利 :JP2022184876A ,2022-12-13

[10]

レジスト材料、レジスト組成物、及びパターン形成方法[ja] [P].

OTOMO YUTARO ;

HATAKEYAMA JUN ;

WATANABE ASAMI ;

KOBAYASHI TOMOHIRO .

日本专利 :JP2024154791A ,2024-10-31

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