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ディスクの製造方法及び製造装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20060510481
申请日
:
2005-02-25
公开(公告)号
:
JPWO2005082550A1
公开(公告)日
:
2007-10-25
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B05D1/40
IPC分类号
:
B05C11/00
B05C11/08
G11B7/26
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
膜の製造方法、及び膜[ja]
[P].
MAKINO KOTARO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
MAKINO KOTARO
;
MOROTA MISAKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
MOROTA MISAKO
;
UCHIDA NORIYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
UCHIDA NORIYUKI
;
IGARASHI MASAYASU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
IGARASHI MASAYASU
;
TANAKA SHINJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
TANAKA SHINJI
.
日本专利
:JP2025080056A
,2025-05-23
[2]
スクリーンおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7629666B1
,2025-02-14
[3]
液晶表示装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011155133A1
,2013-08-01
[4]
半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007004282A1
,2009-01-22
[5]
液晶表示装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011086624A1
,2013-05-16
[6]
極薄膜の製造[ja]
[P].
日本专利
:JP2024503446A
,2024-01-25
[7]
液晶表示装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015016121A1
,2017-03-02
[8]
液晶表示装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015016118A1
,2017-03-02
[9]
触媒被覆膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023524741A
,2023-06-13
[10]
絶縁膜材料、多層配線基板及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009008212A1
,2010-09-02
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