導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパントおよびその溶液、導電性高分子およびその製造方法、並びに電解コンデンサおよびその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20180086006

申请日：

2018-04-27

公开(公告)号：

JP7065683B2

公开(公告)日：

2022-05-12

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C08G61/12

IPC分类号：

C08G73/00 H01G9/00 H01G9/028

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共 50 条

[1]

導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント溶液、導電性高分子およびその製造方法、並びに電解コンデンサおよびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7449717B2 ,2024-03-14

[2]

導電性高分子およびその製造方法、導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント溶液、導電性高分子製造用モノマー組成物、並びに電解コンデンサおよびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025011597A ,2025-01-24

[3]

導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント溶液、導電性高分子の製造方法、および電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7064807B2 ,2022-05-11

[4]

導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント溶液、導電性高分子の製造方法、および電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

FUJIWARA KAZUTO ;

SEKI EMI .

日本专利 :JP2025116188A ,2025-08-07

[5]

導電性高分子溶液、導電性高分子材料およびその製造方法、並びに固体電解コンデンサ[ja] [P].

日本专利 :JP5808796B2 ,2015-11-10

[6]

導電性高分子溶液、導電性高分子材料およびその製造方法、並びに固体電解コンデンサ[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012137969A1 ,2014-07-28

[7]

導電性高分子用ドーパント溶液、導電性高分子製造用モノマー液、導電性組成物およびその製造方法、並びに電解コンデンサおよびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7465406B2 ,2024-04-10

[8]

導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント、導電性高分子製造用酸化剤兼ドーパント溶液、導電性高分子および固体電解コンデンサ[ja] [P].

日本专利 :JP5892535B2 ,2016-03-23

[9]

導電性高分子の製造方法および固体電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5689567B2 ,2015-03-25

[10]

導電性高分子の製造方法および固体電解コンデンサの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014017098A1 ,2016-07-07

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