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研磨剤を有する、洗浄用液体組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160515145
申请日
:
2014-05-28
公开(公告)号
:
JP2016526079A
公开(公告)日
:
2016-09-01
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C11D3/37
IPC分类号
:
B08B3/08
C09G1/02
C09K3/14
C11D1/14
C11D1/22
C11D1/29
C11D1/68
C11D1/72
C11D1/75
C11D3/20
C11D3/38
C11D17/04
C11D17/08
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酵素を有する低pH液体洗浄組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015530424A
,2015-10-15
[2]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7304996B1
,2023-07-07
[3]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011046170A1
,2013-03-07
[4]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015016037A1
,2017-03-02
[5]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010029749A1
,2012-02-02
[6]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6999202B1
,2022-01-18
[7]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
KAWAKUBO HIDEKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
MATSUMOTO YUSHI SEIYAKU KK
MATSUMOTO YUSHI SEIYAKU KK
KAWAKUBO HIDEKI
.
日本专利
:JP2025031531A
,2025-03-07
[8]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012033222A1
,2014-01-20
[9]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7701965B1
,2025-07-02
[10]
液体洗浄剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015016038A1
,2017-03-02
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