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レーザ加工装置、レーザ加工方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20100181874
申请日
:
2010-08-16
公开(公告)号
:
JP5610912B2
公开(公告)日
:
2014-10-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B23K26/00
IPC分类号
:
H01L31/0687
B23K26/40
H01L31/06
H01L31/18
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
レーザ加工方法、レーザ加工装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5986775B2
,2016-09-06
[2]
レーザ加工装置、レーザ加工方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6161188B2
,2017-07-12
[3]
レーザー加工装置、レーザー加工方法[ja]
[P].
YOSHITOMI MASARU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
YOSHITOMI MASARU
;
TAKADA HIDEYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
TAKADA HIDEYUKI
;
NARASAKI AIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
NARASAKI AIKO
;
KOBAYASHI YOHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
AIST
AIST
KOBAYASHI YOHEI
.
日本专利
:JP2024093854A
,2024-07-09
[4]
レーザ加工装置とレーザ加工方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022101900A
,2022-07-07
[5]
レーザ加工方法及レーザ加工装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7251904B2
,2023-04-04
[6]
レーザ加工方法、レーザ加工装置及びレーザ光源[ja]
[P].
UEKIHARA AKIRA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO SEIMITSU CO LTD
TOKYO SEIMITSU CO LTD
UEKIHARA AKIRA
;
OMURA ETSUJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO SEIMITSU CO LTD
TOKYO SEIMITSU CO LTD
OMURA ETSUJI
.
日本专利
:JP2024136181A
,2024-10-04
[7]
レーザ加工装置、レーザ加工システム、レーザ加工方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6063635B2
,2017-01-18
[8]
レーザ加工装置、レーザ加工システム、レーザ加工方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7152646B2
,2022-10-13
[9]
レーザ加工装置、レーザ加工システム、レーザ加工方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6063636B2
,2017-01-18
[10]
レーザ加工装置及びレーザ加工方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6301219B2
,2018-03-28
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