同位体標識化合物の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20180086606

申请日：

2018-04-27

公开(公告)号：

JP7020679B2

公开(公告)日：

2022-02-16

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IPC主分类号：

C07D213/55

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共 50 条

[1]

酸素同位体標識化合物及び酸素同位体標識化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7588117B2 ,2024-11-21

[2]

酸素同位体標識化合物及び酸素同位体標識化合物の製造方法[ja] [P].

SOMEYA TAKUMI ;

NAKAYAMA YOSHIKI .

日本专利 :JP2024004127A ,2024-01-16

[3]

酸素同位体標識化合物、及び酸素同位体標識化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7623858B2 ,2025-01-29

[4]

安定同位体標識化合物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019098179A1 ,2020-12-24

[5]

安定同位体標識化合物[ja] [P].

日本专利 :JP7316218B2 ,2023-07-27

[6]

酸素同位体標識化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6372880B2 ,2018-08-15

[7]

ＲＩ標識化合物製造装置及びＲＩ標識化合物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6274689B1 ,2018-02-07

[8]

同位体標識ピリリウム化合物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013147096A1 ,2015-12-14

[9]

同位体標識ピリリウム化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6124307B2 ,2017-05-10

[10]

標識前駆体化合物、放射性標識化合物、及びそれらの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012121285A1 ,2014-07-17

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