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シリコン支持装置およびこれを用いたシリコン加熱急冷装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20080537659
申请日
:
2007-08-03
公开(公告)号
:
JPWO2009019749A1
公开(公告)日
:
2010-10-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B33/02
IPC分类号
:
B02C19/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ラック軸支持装置およびこれを用いたステアリング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5962977B2
,2016-08-03
[2]
プリンタおよびシート支持装置[ja]
[P].
KOBAYASHI TAKESHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA TEC KK
TOSHIBA TEC KK
KOBAYASHI TAKESHI
.
日本专利
:JP2024140262A
,2024-10-10
[3]
プリント装置およびシート支持装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6198639B2
,2017-09-20
[4]
坩堝支持装置およびシリコン単結晶の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6753356B2
,2020-09-09
[5]
リンク組立体及びそれを用いた下肢支持装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6660684B2
,2020-03-11
[6]
ラック軸支持装置及びこれを用いたステアリング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5954574B2
,2016-07-20
[7]
端末支持装置および端末支持装置を用いたコントロールケーブルアッセンブリ[ja]
[P].
日本专利
:JP6722162B2
,2020-07-15
[8]
乗客コンベアの支持装置、および、それを用いた乗客コンベア、乗客コンベアの据付方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6818637B2
,2021-01-20
[9]
ローラ支持装置、およびこれを用いたカートリッジ、画像形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6433274B2
,2018-12-05
[10]
坩堝支持台座、石英坩堝支持装置およびシリコン単結晶の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6743797B2
,2020-08-19
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