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半導体集積回路装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140505836
申请日
:
2012-03-19
公开(公告)号
:
JPWO2013140505A1
公开(公告)日
:
2015-08-03
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G05F1/10
IPC分类号
:
G05F1/56
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体集積回路[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008120480A1
,2010-07-15
[2]
半導体集積回路装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002073696A1
,2004-07-08
[3]
半導体集積回路用絶縁膜研磨剤組成物および半導体集積回路の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004023539A1
,2006-01-05
[4]
半導体集積回路のモノリシック3次元集積化[ja]
[P].
日本专利
:JP2016517625A
,2016-06-16
[5]
積層体、及び半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019171205A1
,2021-02-25
[6]
異種半導体材料集積化技術[ja]
[P].
日本专利
:JP2017508266A
,2017-03-23
[7]
酸化物半導体積層膜及び半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5980737B2
,2016-08-31
[8]
記憶素子およびメモリ装置並びに半導体集積回路[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008023637A1
,2010-01-07
[9]
半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023024585A
,2023-02-16
[10]
半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5899366B1
,2016-04-06
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