高周波フィルタ用の基板を製造するためのプロセス[ja]

被引：0

申请号：

JP20200552315

申请日：

2019-03-27

公开(公告)号：

JP2021520095A

公开(公告)日：

2021-08-12

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H03H3/08

IPC分类号：

H01L41/053 H01L41/09 H01L41/113 H01L41/187 H01L41/22 H01L41/23 H03H9/25

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

高周波フィルタ用の基板を製造するためのプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP7480058B2 ,2024-05-09

[2]

高周波デバイス用の基板を製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021519537A ,2021-08-10

[3]

オレフィンを製造するための触媒及びプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2018505047A ,2018-02-22

[4]

タウリンを製造するための循環プロセス[ja] [P].

日本专利 :JP6227815B1 ,2017-11-08

[5]

無線周波数用途のための半導体・オン・インシュレータ構造用のレシーバ基板を製造するためのプロセス及び係る構造を製造するためのプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2022516600A ,2022-03-01

[6]

セルロースの触媒酸化のための方法、およびセルロース製品を製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016529377A ,2016-09-23

[7]

黒鉛材料を精製するためのプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2022544670A ,2022-10-20

[8]

集積された高周波デバイスのための基板及びそれを製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP7230297B2 ,2023-03-01

[9]

集積された高周波デバイスのための基板及びそれを製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021532567A ,2021-11-25

[10]

層を堆積するためのプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2025528524A ,2025-08-28

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