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多孔質シリカ粒子及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190555992
申请日
:
2018-12-27
公开(公告)号
:
JPWO2019131873A1
公开(公告)日
:
2020-04-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B33/18
IPC分类号
:
A61K8/25
A61Q1/00
A61Q1/12
C09K3/14
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリカ粒子及びその製造方法並びにシリカゾル[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015087965A1
,2017-03-16
[2]
球状シリカ複合粒子及びその製造方法[ja]
[P].
KOBAYASHI IKUE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
KOBAYASHI IKUE
;
ARAI TOSHIHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
ARAI TOSHIHIRO
.
日本专利
:JP2025033779A
,2025-03-13
[3]
中空シリカ粒子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7320692B1
,2023-08-03
[4]
多孔質シリコーンゴム球状粒子、多孔質シリコーン複合粒子、及びそれら粒子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7003881B2
,2022-01-21
[5]
シリカ熱反射板及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7628659B1
,2025-02-10
[6]
シリカ微粒子分散液およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025145906A
,2025-10-03
[7]
多孔質材料、ハニカム構造体及び多孔質材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013146953A1
,2015-12-14
[8]
多孔質球状ポリアミド粒子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006082908A1
,2008-06-26
[9]
修飾シリカ、その製造方法およびその使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2023532783A
,2023-07-31
[10]
コロイダルシリカ及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022186848A
,2022-12-15
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