ヘキスロン酸残基が異性化されたヘパロサン化合物の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20180562866
申请日
2017-08-29
公开(公告)号
JPWO2018135027A1
公开(公告)日
2019-11-07
发明(设计)人
申请人
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IPC主分类号
C12P19/26
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
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共 50 条
[2]
シクロヘキサノン化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6129298B2 ,2017-05-17
[3]
シクロヘキサン化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP5655341B2 ,2015-01-21
[5]
[7]
シロキサン化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6311983B2 ,2018-04-18
[8]
シロキサン化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6292552B2 ,2018-03-14
[9]
シロキサン化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6557075B2 ,2019-08-07
[10]
ヘテロアセン化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6532737B2 ,2019-06-19