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ヘキスロン酸残基が異性化されたヘパロサン化合物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180562866
申请日
:
2017-08-29
公开(公告)号
:
JPWO2018135027A1
公开(公告)日
:
2019-11-07
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C12P19/26
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ヘキスロン酸残基が異性化されたヘパロサン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7088026B2
,2022-06-21
[2]
シクロヘキサノン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6129298B2
,2017-05-17
[3]
シクロヘキサン化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP5655341B2
,2015-01-21
[4]
シロキサン化合物及びシロキサン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6813857B2
,2021-01-13
[5]
シロキサン化合物及びシロキサン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017018544A1
,2018-06-07
[6]
シロキサン化合物及びシロキサン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6562318B2
,2019-08-21
[7]
シロキサン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6311983B2
,2018-04-18
[8]
シロキサン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6292552B2
,2018-03-14
[9]
シロキサン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6557075B2
,2019-08-07
[10]
ヘテロアセン化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6532737B2
,2019-06-19
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