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基于微米造影剂的二次谐波聚焦器
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410396565.X
申请日
:
2024-04-03
公开(公告)号
:
CN117982167B
公开(公告)日
:
2024-06-21
发明(设计)人
:
曾庆磊
刘晓宙
徐鑫
申请人
:
南京大学
申请人地址
:
210000 江苏省南京市栖霞区仙林大道163号
IPC主分类号
:
A61B8/00
IPC分类号
:
A61N7/00
A61M37/00
代理机构
:
南京苏创专利代理事务所(普通合伙) 32273
代理人
:
王华
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 南京市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-06-21
授权
授权
2024-05-07
公开
公开
2024-05-24
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):A61B 8/00申请日:20240403
共 50 条
[1]
基于微米造影剂的二次谐波聚焦器
[P].
曾庆磊
论文数:
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机构:
南京大学
南京大学
曾庆磊
;
论文数:
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机构:
刘晓宙
;
论文数:
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机构:
徐鑫
.
中国专利
:CN117982167A
,2024-05-07
[2]
一种超声造影剂二次谐波重构方法、设备、介质及产品
[P].
朱婧颖
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机构:
云南大学
云南大学
朱婧颖
;
论文数:
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机构:
张榆锋
;
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机构:
何冰冰
;
论文数:
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机构:
熊丽
;
论文数:
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机构:
郎恂
.
中国专利
:CN118447115A
,2024-08-06
[3]
基于二次谐波的表征设备
[P].
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机构:
李博
;
赵泓达
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
赵泓达
;
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机构:
王磊
;
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机构:
王然
;
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机构:
张紫辰
.
中国专利
:CN118039515A
,2024-05-14
[4]
二聚造影剂
[P].
V·博伊
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V·博伊
;
R·纳波莱塔诺
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R·纳波莱塔诺
;
L·拉图阿达
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L·拉图阿达
.
中国专利
:CN108368067B
,2018-08-03
[5]
二聚造影剂
[P].
V·博伊
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V·博伊
;
R·纳波莱塔诺
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R·纳波莱塔诺
;
L·拉图阿达
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L·拉图阿达
;
G·B·焦文扎纳
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G·B·焦文扎纳
.
中国专利
:CN109963838A
,2019-07-02
[6]
造影剂或与造影剂有关的改进
[P].
J·奥斯腾森
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J·奥斯腾森
;
M·艾里克森
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M·艾里克森
;
S·夫里吉斯塔德
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S·夫里吉斯塔德
;
P·罗威德
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P·罗威德
.
中国专利
:CN1238699A
,1999-12-15
[7]
造影剂或有关造影剂的改进
[P].
H·杜格斯塔德
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H·杜格斯塔德
;
J·克拉维尼斯
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J·克拉维尼斯
;
P·隆维德
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P·隆维德
;
R·斯科特维特
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R·斯科特维特
;
J·布兰德恩
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0
J·布兰德恩
.
中国专利
:CN1213972A
,1999-04-14
[8]
造影剂或与造影剂有关的改进
[P].
M·埃里克森
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M·埃里克森
;
H·妥勒夏格
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H·妥勒夏格
;
R·斯科特维特
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R·斯科特维特
;
A·库斯伯特森
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A·库斯伯特森
;
J·奥斯坦森
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J·奥斯坦森
;
S·弗里格斯塔德
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S·弗里格斯塔德
;
P·朗维德
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P·朗维德
.
中国专利
:CN1306442A
,2001-08-01
[9]
造影剂及其相关造影剂的改进
[P].
D·约翰森
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D·约翰森
;
J·斯坦森
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J·斯坦森
;
M·艾里克森
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M·艾里克森
;
A·托尼斯
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A·托尼斯
;
S·弗里斯塔德
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S·弗里斯塔德
;
H·杜格斯塔德
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H·杜格斯塔德
;
J·克拉文尼斯
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J·克拉文尼斯
;
P·罗格维德
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P·罗格维德
;
R·斯库特维特
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R·斯库特维特
;
J·布拉恩登
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J·布拉恩登
.
中国专利
:CN1227502A
,1999-09-01
[10]
排粪造影的造影剂灌注器
[P].
王雪琴
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王雪琴
;
李雪
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李雪
;
陈金华
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陈金华
.
中国专利
:CN206660283U
,2017-11-24
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