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半导体工艺设备的气体混合装置及半导体工艺设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410831105.5
申请日
:
2024-06-26
公开(公告)号
:
CN118371136A
公开(公告)日
:
2024-07-23
发明(设计)人
:
周礼
田相龙
姜大春
申请人
:
艾生科(江苏)化工科技有限公司
申请人地址
:
213000 江苏省常州市新北区浏阳河路109号
IPC主分类号
:
B01F23/10
IPC分类号
:
B01F33/82
代理机构
:
苏州市知腾专利代理事务所(普通合伙) 32632
代理人
:
毕江涛
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-01
授权
授权
2024-08-09
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):B01F 23/10申请日:20240626
2024-07-23
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体工艺设备的气体混合装置及半导体工艺设备
[P].
周礼
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
艾生科(江苏)化工科技有限公司
艾生科(江苏)化工科技有限公司
周礼
;
田相龙
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0
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0
机构:
艾生科(江苏)化工科技有限公司
艾生科(江苏)化工科技有限公司
田相龙
;
姜大春
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
艾生科(江苏)化工科技有限公司
艾生科(江苏)化工科技有限公司
姜大春
.
中国专利
:CN118371136B
,2024-11-01
[2]
半导体工艺设备
[P].
成佳东
论文数:
0
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0
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0
机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
成佳东
.
中国专利
:CN118854257A
,2024-10-29
[3]
用于半导体工艺的气体混合装置及半导体工艺设备
[P].
关帅
论文数:
0
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0
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0
关帅
;
野沢俊久
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0
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野沢俊久
;
吴凤丽
论文数:
0
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0
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0
吴凤丽
.
中国专利
:CN114210220A
,2022-03-22
[4]
用于半导体工艺的气体混合装置及半导体工艺设备
[P].
关帅
论文数:
0
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机构:
拓荆科技股份有限公司
拓荆科技股份有限公司
关帅
;
野沢俊久
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机构:
拓荆科技股份有限公司
拓荆科技股份有限公司
野沢俊久
;
吴凤丽
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机构:
拓荆科技股份有限公司
拓荆科技股份有限公司
吴凤丽
.
中国专利
:CN114210220B
,2025-09-19
[5]
半导体工艺设备的进气装置及半导体工艺设备
[P].
伊藤正雄
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伊藤正雄
;
林源为
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林源为
.
中国专利
:CN115074701A
,2022-09-20
[6]
半导体工艺设备的进气装置及半导体工艺设备
[P].
赵庆峰
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赵庆峰
;
王晓飞
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王晓飞
.
中国专利
:CN112359343B
,2021-02-12
[7]
半导体工艺设备
[P].
王凡
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
王凡
;
王晓飞
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
王晓飞
;
赵庆峰
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
赵庆峰
;
燕纪威
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
燕纪威
.
中国专利
:CN119852214A
,2025-04-18
[8]
半导体工艺设备
[P].
史晶
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0
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0
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史晶
;
郑波
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郑波
;
马振国
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马振国
.
中国专利
:CN112795902A
,2021-05-14
[9]
气体混合装置和半导体工艺设备
[P].
高勇强
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高勇强
;
胡良斌
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胡良斌
;
朱红波
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朱红波
.
中国专利
:CN216639641U
,2022-05-31
[10]
半导体工艺腔室及半导体工艺设备
[P].
黄其伟
论文数:
0
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黄其伟
.
中国专利
:CN112992743B
,2021-06-18
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