基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211658220.4

申请日：

2022-12-22

公开(公告)号：

CN116631923B

公开(公告)日：

2024-08-13

发明(设计)人：

大宅宗明三林武森井敬亮

申请人：

株式会社斯库林集团

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L21/677

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

宋晓宝

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-09	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/677申请日:20221222
2024-08-13	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理程序 [P].

大塚庆崇 ;

中满孝志 .

中国专利 :CN1828828A ,2006-09-06

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田朋生 ;

日高章一郎 .

日本专利 :CN110783228B ,2024-07-30

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

田边万奈 ;

高居康介 ;

增井健二 ;

梅泽华织 .

日本专利 :CN111696884B ,2024-01-16

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

本田拓巳 ;

山下浩司 ;

田原真二 ;

百武宏展 .

日本专利 :CN110010520B ,2024-03-26

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

宫城雅宏 ;

佐藤雅伸 ;

荒木浩之 .

中国专利 :CN101145505A ,2008-03-19

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小原隆宪 .

中国专利 :CN112825303A ,2021-05-21

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

饱本正巳 ;

北野淳一 ;

田中幸二 ;

大塚贵久 ;

南田纯也 .

中国专利 :CN114551278A ,2022-05-27

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

野中纯 ;

中森光则 .

中国专利 :CN113924642A ,2022-01-11

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

小佐井一树 ;

篠原和义 .

中国专利 :CN115136282A ,2022-09-30

[10]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

丸本洋 .

日本专利 :CN119343752A ,2025-01-21

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