一种深基坑围护帷幕施工工艺

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410201861.X
申请日
2024-02-23
公开(公告)号
CN118326949A
公开(公告)日
2024-07-12
发明(设计)人
范宇源 李敏 黄磊磊 夏康 吴兴召 史静
申请人
中国建筑第二工程局有限公司
申请人地址
101101 北京市通州区梨园镇北杨洼251号
IPC主分类号
E02D5/18
IPC分类号
E02D5/34 E02D19/18
代理机构
南京众联专利代理有限公司 32206
代理人
谢振龙
法律状态
实质审查的生效
国省代码
北京市 市辖区
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共 50 条
[1]
一种深基坑施工工艺 [P]. 
张伯聪 ;
张湘元 ;
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[2]
一种基坑围护施工工艺 [P]. 
史淋涛 ;
范庆华 ;
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黎涛 ;
任乐乐 ;
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罗宇 ;
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[3]
一种基坑围护施工工艺 [P]. 
杜汉文 ;
费忠君 ;
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苏士康 ;
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[4]
一种深基坑中预应力支撑的施工工艺 [P]. 
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吴亮 ;
尚学伟 ;
周曙东 ;
周芳 ;
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[5]
深基坑结构和深基坑施工工艺 [P]. 
时云里 ;
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刘体义 ;
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李永飞 ;
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[6]
一种基坑围护结构施工工艺 [P]. 
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[7]
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[8]
一种深基坑中支护体系的结构及其施工工艺 [P]. 
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[9]
深基坑向浅基坑的扩展施工的基坑围护方法 [P]. 
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[10]
一种深基坑支护施工工艺 [P]. 
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