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一种无碱玻璃基板及其制备方法和应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410513663.7
申请日
:
2024-04-26
公开(公告)号
:
CN118324394A
公开(公告)日
:
2024-07-12
发明(设计)人
:
李青
李赫然
刘文渊
胡恒广
闫冬成
张广涛
刘泽文
张盼
申请人
:
河北光兴半导体技术有限公司
北京盛达众安科技有限公司
申请人地址
:
050035 河北省石家庄市高新区中山东路931号
IPC主分类号
:
C03B17/06
IPC分类号
:
C03C3/093
代理机构
:
北京润平知识产权代理有限公司 11283
代理人
:
刘依云
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-07-30
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C03B 17/06申请日:20240426
2024-07-12
公开
公开
共 50 条
[1]
玻璃基板用组合物、滤蓝光无碱玻璃基板及其制备方法和应用
[P].
李青
论文数:
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机构:
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
李青
;
李赫然
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机构:
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
李赫然
;
鲍思权
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机构:
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
鲍思权
;
宋述远
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机构:
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
宋述远
;
田鹏
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机构:
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
田鹏
;
季爱国
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机构:
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
季爱国
;
杨震
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机构:
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
杨震
;
翟凯
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机构:
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
湖南兆湘光电高端装备研究院有限公司
翟凯
.
中国专利
:CN116495991B
,2025-05-16
[2]
一种无碱玻璃基板及其制备方法
[P].
谢武
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机构:
湖南邵虹特种玻璃股份有限公司
湖南邵虹特种玻璃股份有限公司
谢武
.
中国专利
:CN118239676A
,2024-06-25
[3]
无碱玻璃基板和无碱玻璃基板的制造方法
[P].
泷口哲史
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泷口哲史
;
井上俊二
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井上俊二
;
小野和孝
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小野和孝
;
德永博文
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德永博文
;
秋山顺
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秋山顺
;
加藤保真
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加藤保真
;
谷口健英
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谷口健英
.
中国专利
:CN107188406B
,2017-09-22
[4]
玻璃组合物以及无碱玻璃及其制备方法和应用
[P].
郭向阳
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郭向阳
;
彭飞
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彭飞
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郭锋
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郭锋
;
刘文泰
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刘文泰
;
王丽红
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王丽红
.
中国专利
:CN107721158A
,2018-02-23
[5]
TFT耐酸无碱玻璃基板及其制备方法
[P].
张稳
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机构:
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
张稳
;
王俊峰
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机构:
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
王俊峰
;
周萌
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机构:
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
周萌
.
中国专利
:CN120309172A
,2025-07-15
[6]
一种制备无碱玻璃基板的方法
[P].
王衍行
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王衍行
;
祖成奎
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祖成奎
;
韩滨
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韩滨
;
陈江
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陈江
;
刘永华
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刘永华
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赵慧峰
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赵慧峰
;
何坤
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何坤
.
中国专利
:CN103274596B
,2013-09-04
[7]
无碱玻璃及无碱玻璃基板
[P].
柳濑智基
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柳濑智基
;
三和晋吉
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三和晋吉
.
中国专利
:CN101448753A
,2009-06-03
[8]
对金属层附着力高的无碱玻璃基板及其制备方法和应用
[P].
张稳
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机构:
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
张稳
;
王俊峰
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机构:
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
王俊峰
;
周萌
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机构:
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
四川蜀旺辰昇新材料有限责任公司
周萌
.
中国专利
:CN119822633A
,2025-04-15
[9]
无碱玻璃基板
[P].
增茂邦雄
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增茂邦雄
;
小野和孝
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小野和孝
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谷井史朗
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谷井史朗
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德永未央
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德永未央
;
小林大介
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小林大介
.
中国专利
:CN115611510A
,2023-01-17
[10]
无碱玻璃基板
[P].
增茂邦雄
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机构:
AGC株式会社
AGC株式会社
增茂邦雄
;
小野和孝
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机构:
AGC株式会社
AGC株式会社
小野和孝
;
谷井史朗
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机构:
AGC株式会社
AGC株式会社
谷井史朗
;
德永未央
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机构:
AGC株式会社
AGC株式会社
德永未央
;
小林大介
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机构:
AGC株式会社
AGC株式会社
小林大介
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日本专利
:CN115611510B
,2025-01-10
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