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一种光刻设备的涂胶装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202322681750.7
申请日：
2023-10-04
公开(公告)号：
CN221208685U
公开(公告)日：
2024-06-25
发明(设计)人：
葛文志
申请人：
杭州美迪凯微电子有限公司
申请人地址：
311199 浙江省杭州市中国(浙江)自由贸易试验区杭州市钱塘区白杨街道21号大街与12号大街交叉口西北角
IPC主分类号：
B05C1/02
IPC分类号：
B05C11/10
B05C13/02
代理机构：
杭州一串数字知识产权代理有限公司 33437
代理人：
徐晓琴
法律状态：
授权
国省代码：
浙江省
杭州市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-06-25 | 授权 | 授权 |