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工艺腔室及半导体工艺设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011149186.9
申请日
:
2020-10-23
公开(公告)号
:
CN112259479B
公开(公告)日
:
2024-06-21
发明(设计)人
:
徐刚
郑波
魏景峰
申请人
:
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址
:
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
:
H01L21/67
IPC分类号
:
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
彭瑞欣;王婷
法律状态
:
授权
国省代码
:
安徽省 宣城市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-06-21
授权
授权
共 50 条
[1]
工艺腔室及半导体工艺设备
[P].
徐刚
论文数:
0
引用数:
0
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0
徐刚
;
郑波
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郑波
;
魏景峰
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魏景峰
.
中国专利
:CN112259479A
,2021-01-22
[2]
半导体工艺设备的反应腔室及半导体工艺设备
[P].
成航航
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成航航
;
林源为
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林源为
.
中国专利
:CN213691989U
,2021-07-13
[3]
半导体工艺设备的传输腔室及半导体工艺设备
[P].
曹京星
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0
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0
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0
机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
曹京星
.
中国专利
:CN119008478A
,2024-11-22
[4]
半导体工艺设备的传输腔室及半导体工艺设备
[P].
曹京星
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
曹京星
.
中国专利
:CN119008478B
,2025-11-14
[5]
半导体工艺设备及其工艺腔室
[P].
刘潇
论文数:
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刘潇
;
光娟亮
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光娟亮
.
中国专利
:CN111725107A
,2020-09-29
[6]
工艺腔室及半导体工艺设备
[P].
鲁艳成
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鲁艳成
;
韦刚
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韦刚
;
茅兴飞
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茅兴飞
.
中国专利
:CN112509901A
,2021-03-16
[7]
半导体工艺设备及其工艺腔室
[P].
余江浦
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余江浦
.
中国专利
:CN214417195U
,2021-10-19
[8]
半导体工艺设备的工艺腔室及半导体工艺设备
[P].
田西强
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田西强
.
中国专利
:CN112813419A
,2021-05-18
[9]
半导体工艺设备的工艺腔室及半导体工艺设备
[P].
刘胜明
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刘胜明
;
郑波
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郑波
;
荣延栋
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荣延栋
.
中国专利
:CN113241312A
,2021-08-10
[10]
半导体工艺设备的工艺腔室及半导体工艺设备
[P].
刘胜明
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
刘胜明
;
郑波
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
郑波
;
荣延栋
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
荣延栋
.
中国专利
:CN113241312B
,2025-07-29
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