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蒸発減量の少ないスピンオンカーボンハードマスク組成物及びそれを用いたパターン化方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20230569809
申请日：
2022-05-03
公开(公告)号：
JP2024518498A
公开(公告)日：
2024-05-01
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/11
IPC分类号：
H01L21/3065 H01L21/312
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
高平坦化性能を有するスピンオンカーボンハードマスク組成物、及びこれを用いたパターン化方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025510849A ,2025-04-15
[2]
ハードマスク組成物用モノマー、前記モノマーを含むハードマスク組成物および前記ハードマスク組成物を用いたパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2015515112A ,2015-05-21
[3]
ハードマスク組成物、ハードマスク層、およびパターン形成方法[ja] [P]. 
JUNG HYEON-IL ;
BAE SHINHYO ;
PARK HYUNG-SEOK ;
LEE SUNGEUN ;
KIM YOUNG MIN ;
LEE JAE-CHEOL ;
CHOE HUISEON ;
SO MINJI .
日本专利 :JP2025141887A ,2025-09-29
[4]
ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P]. 
CHOI SEIL .
日本专利 :JP2024161913A ,2024-11-20
[5]
ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P]. 
CHUNG JOO YOUNG ;
NAM YOUNHEE ;
JEONG SEULGI .
日本专利 :JP2024134514A ,2024-10-03
[6]
ハードマスク組成物、ハードマスク層、およびパターン形成方法[ja] [P]. 
JUNG HYEON-IL ;
KIM YOUNG MIN ;
KIM YEJIN ;
PARK SOYEON ;
YANG SUNYOUNG ;
BAE SHINHYO ;
LEE SUNGEUN ;
PARK HYUNG-SEOK ;
SONG CHAERIN .
日本专利 :JP2024137647A ,2024-10-07
[7]
ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P]. 
CHOI SEIL .
日本专利 :JP2024144281A ,2024-10-11
[8]
ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P]. 
KIM YEJIN ;
CHAE YUNJU ;
CHUNG JOO YOUNG ;
KIM SEUNG-HYUN .
日本专利 :JP2025114495A ,2025-08-05
[9]
ハードマスク組成物、ハードマスク層およびパターン形成方法[ja] [P]. 
YOO YONG-SIK ;
NAM YOUNHEE ;
KIM YOONA ;
WON DONGHOON ;
HWANG WON JONG ;
KIM TAESOO ;
KIM SEUNG-HYUN ;
CHUNG JOO YOUNG .
日本专利 :JP2025114511A ,2025-08-05
[10]
レジストパターン処理用組成物およびそれを用いたパターン形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016060116A1 ,2017-07-27
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