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レーザーエリプソメトリックシステムに基づく膜厚測定装置および測定方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20220168467
申请日：
2022-10-20
公开(公告)号：
JP7429277B1
公开(公告)日：
2024-02-07
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G01B11/06
IPC分类号：
G01J3/447 G01N21/21
代理机构：
代理人：
法律状态：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
レーザーエリプソメトリックシステムに基づく膜厚測定装置および測定方法[ja] [P]. 
LEI LIHUA ;
CAO CHENGMING ;
SHEN YAOQIONG ;
GUAN YUQING ;
ZOU WENZHE ;
FU YUNXIA .
日本专利 :JP2024025607A ,2024-02-26
[2]
レイリー測定システムおよびレイリー測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6564522B2 ,2019-08-21
[3]
レイリー測定システムおよびレイリー測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017154190A1 ,2018-10-04
[4]
リーク測定方法及びリーク測定システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP5823593B2 ,2015-11-25
[5]
リーク測定方法及びリーク測定システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP5635294B2 ,2014-12-03
[6]
エクソソームの測定方法およびエクソソームの測定キット[ja] [P]. 
AOKI YOICHI ;
KAYA TAKATOSHI .
日本专利 :JP2025000757A ,2025-01-07
[7]
エクソソームの測定方法およびエクソソームの測定キット[ja] [P]. 
日本专利 :JP7562523B2 ,2024-10-07
[8]
膜厚測定方法および膜厚測定システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP5839868B2 ,2016-01-06
[9]
膜厚測定装置、膜厚測定システム及び膜厚測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7783931B2 ,2025-12-10
[10]
膜厚測定装置、膜厚測定システム及び膜厚測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025153359A ,2025-10-10
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