粒度分布を有するシリカゾル及びその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230528171

申请日：

2023-01-13

公开(公告)号：

JP7360098B1

公开(公告)日：

2023-10-12

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C01B33/149

IPC分类号：

C08K3/22 C08K3/36 C08K5/17 C08K9/06 C08L63/00

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共 50 条

[1]

シリカゾル及びシリカゾルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014199903A1 ,2017-02-23

[2]

細長い粒子形状を有するシリカゾルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019163993A1 ,2021-02-18

[3]

細長い粒子形状を有するシリカゾルの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019163992A1 ,2021-03-04

[4]

表面処理ゾルゲルシリカ及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019044929A1 ,2019-11-07

[5]

シリカ容器及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010125739A1 ,2012-10-25

[6]

シリカ容器及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010137221A1 ,2012-11-12

[7]

改善された粒度分布を有するガラス粉末及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5997488B2 ,2016-09-28

[8]

シリカコロイド粒子及びその製造方法、並びにその有機溶媒分散シリカゾル、重合性化合物分散シリカゾル及びジカルボン酸無水物分散シリカゾル[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009101974A1 ,2011-06-09

[9]

カルボキシル基を有する（共）重合体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006006351A1 ,2008-07-31

[10]

防汚性を有する凹凸形状の表面を有する構造体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014013922A1 ,2016-06-30

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