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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤[ja]

被引：0
申请号：
JP20220174668
申请日：
2022-10-31
公开(公告)号：
JP2024065677A
公开(公告)日：
2024-05-15
发明(设计)人：
MATSUSHITA TETSUYA INARI TAKATOSHI
申请人：
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
C07C281/02 C07C323/20 C07D307/91 C09K3/00 G03F7/039 G03F7/20
代理机构：
代理人：
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法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
MATSUSHITA TETSUYA ;
INARI TAKATOSHI .
日本专利 :JP2024065692A ,2024-05-15
[2]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
日本专利 :JP7353334B2 ,2023-09-29
[3]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025174646A ,2025-11-28
[4]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
AKIMOTO YURI ;
KOBAYASHI RYOTA ;
KATO HIROKI .
日本专利 :JP2024168058A ,2024-12-05
[5]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
KATO HIROKI .
日本专利 :JP2024079160A ,2024-06-11
[6]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025158783A ,2025-10-17
[7]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025136183A ,2025-09-19
[8]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
MATSUSHITA TETSUYA .
日本专利 :JP2025115751A ,2025-08-07
[9]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
ADACHI YOHEI .
日本专利 :JP2025027484A ,2025-02-28
[10]
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤[ja] [P]. 
ADACHI YOHEI ;
ISHII SHUICHI .
日本专利 :JP2024113847A ,2024-08-23
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