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Co-Cr-Pt-酸化物系スパッタリングターゲット[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220111636
申请日
:
2022-07-12
公开(公告)号
:
JP2024010347A
公开(公告)日
:
2024-01-24
发明(设计)人
:
GOTO YASUYUKI
EGUCHI TOYOKAZU
WATANABE YASUNOBU
TADOKORO JUN
申请人
:
TANAKA PRECIOUS METAL IND
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
Co−Cr−Pt系スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013108520A1
,2015-05-11
[2]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6957815B2
,2021-11-02
[3]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6212869B2
,2017-10-18
[4]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6859837B2
,2021-04-14
[5]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6961925B2
,2021-11-05
[6]
酸化物スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6850981B2
,2021-03-31
[7]
Co−Cr−Pt−B系合金スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013001943A1
,2015-02-23
[8]
酸化物スパッタリングターゲット材[ja]
[P].
日本专利
:JP6731147B2
,2020-07-29
[9]
Fe−Pt系強磁性材スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012029498A1
,2013-10-28
[10]
酸化物スパッタリングターゲット、及び、酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7028268B2
,2022-03-02
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