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触媒活性生成物、そのような生成物の製造方法、及び前記生成物を含む反応器[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240520832
申请日
:
2022-06-09
公开(公告)号
:
JP2024523750A
公开(公告)日
:
2024-06-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J37/02
IPC分类号
:
B01J32/00
B01J37/00
B01J37/06
B01J37/08
B01J37/16
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
触媒活性生成物及びそのような触媒活性生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024526373A
,2024-07-17
[2]
触媒活性生成物及びそのような触媒活性生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7743621B2
,2025-09-24
[3]
反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7288687B2
,2023-06-08
[4]
反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019225675A1
,2021-07-08
[5]
反応生成物製造装置及び反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7223658B2
,2023-02-16
[6]
反応生成物の製造方法[ja]
[P].
TOMITA MITSURU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
TOMITA MITSURU
;
KIMURA NAOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
KIMURA NAOTO
;
HAMADA YOSHITAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
HAMADA YOSHITAKA
.
日本专利
:JP2024143040A
,2024-10-11
[7]
光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019216321A1
,2021-06-17
[8]
光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7224054B2
,2023-02-17
[9]
反応生成物の製法[ja]
[P].
日本专利
:JP6272589B1
,2018-01-31
[10]
反応生成物の製法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022145679A
,2022-10-04
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