除染システムおよび除染方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230005132

申请日：

2023-01-17

公开(公告)号：

JP2024101253A

公开(公告)日：

2024-07-29

发明(设计)人：

WATANABE SOMA KODO RYOJI HIROSAWA YUSUKE

申请人：

SHIBUYA KOGYO CO LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

A61L2/20

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

除染システム[ja] [P].

日本专利 :JP7357988B1 ,2023-10-10

[2]

除染システム[ja] [P].

KAWASAKI YASUSHI ;

OGATA YOSHITAKA ;

KAKUDA DAISUKE ;

KITANO TSUKASA ;

GUO ZHIQIANG .

日本专利 :JP2025014574A ,2025-01-30

[3]

過酸化水素除染システム[ja] [P].

日本专利 :JP7350408B1 ,2023-09-26

[4]

空間除染方法及び空間除染装置[ja] [P].

日本专利 :JP7383864B1 ,2023-11-21

[5]

空間除染方法及び空間除染装置[ja] [P].

日本专利 :JP7264328B1 ,2023-04-25

[6]

空間除染方法及び空間除染装置[ja] [P].

日本专利 :JP7737582B1 ,2025-09-10

[7]

滅菌、消毒、衛生化、除染および治療の装置、システム、ならびに方法[ja] [P].

RICK SHEA ;

JONATHAN W GREENE ;

CZESLAW GOLKOWSKI ;

MARK GOLKOWSKI ;

ANYA GOLKOWSKI ;

TOM STEFFIE .

日本专利 :JP2022008986A ,2022-01-14

[8]

滅菌、消毒、衛生化、除染および治療の装置、システム、ならびに方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019523038A ,2019-08-22

[9]

除染液、並びに、これを使用する除染装置及び除染方法[ja] [P].

日本专利 :JP7273441B1 ,2023-05-15

[10]

除染液、並びに、これを使用する除染装置及び除染方法[ja] [P].

OGATA YOSHITAKA ;

NIMURA HARUKA ;

GUO ZHIQIANG ;

KITANO TSUKASA ;

UKIURA AYUMI ;

ITO NARUMI ;

KUREBAYASHI KOHEI ;

AOI KEITO ;

OKUMURA SUZUNE ;

OSHIMA MITSUTOSHI ;

KAWASAKI YASUSHI .

日本专利 :JP2024054530A ,2024-04-17

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