補正方法、基板処理装置、及び補正データ生成装置[ja]

被引:0
申请号
JP20220187172
申请日
2022-11-24
公开(公告)号
JP7439221B2
公开(公告)日
2024-02-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/306
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
補正方法、基板処理装置、及び補正データ生成装置[ja] [P]. 
INOUE MASASHI .
日本专利 :JP2023010956A ,2023-01-20
[2]
補正データ生成方法及び補正データ生成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6427280B2 ,2018-11-21
[3]
補正データ生成方法及び補正データ生成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017150071A1 ,2018-03-15
[7]
ムラ補正データ生成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018220757A1 ,2020-04-02
[10]
補正値生成装置及び補正値生成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6548412B2 ,2019-07-24