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被覆量子ドット材料及びその調製方法と量子ドット光学デバイス[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240515354
申请日
:
2022-08-26
公开(公告)号
:
JP2024536739A
公开(公告)日
:
2024-10-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C09K11/08
IPC分类号
:
B82Y20/00
B82Y40/00
C09K11/56
C09K11/88
G02B5/20
H05B33/14
H10K50/115
H10K59/10
H10K59/38
H10K71/40
H10K85/20
H10K85/50
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
水溶性量子ドット、その作製方法及び量子ドットフィルムの作製方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018538578A
,2018-12-27
[2]
高純度炭素量子ドット材料およびその調製方法[ja]
[P].
AI JING
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FORTUNE INVEST BUSINESS CO LTD
FORTUNE INVEST BUSINESS CO LTD
AI JING
;
SONG WEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FORTUNE INVEST BUSINESS CO LTD
FORTUNE INVEST BUSINESS CO LTD
SONG WEI
;
XUE YI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FORTUNE INVEST BUSINESS CO LTD
FORTUNE INVEST BUSINESS CO LTD
XUE YI
;
HA MINMEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FORTUNE INVEST BUSINESS CO LTD
FORTUNE INVEST BUSINESS CO LTD
HA MINMEI
.
日本专利
:JP2025066640A
,2025-04-23
[3]
発光量子ドット[ja]
[P].
日本专利
:JP2016505661A
,2016-02-25
[4]
発光量子ドット[ja]
[P].
日本专利
:JP2016501285A
,2016-01-18
[5]
グラフェン量子ドットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021535890A
,2021-12-23
[6]
封入された量子ドットを製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019519621A
,2019-07-11
[7]
グラフェン量子ドットの大規模な製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017510534A
,2017-04-13
[8]
研磨パッド及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6317842B1
,2018-04-25
[9]
量子ドットを含有する硬化性樹脂系[ja]
[P].
日本专利
:JP2019511609A
,2019-04-25
[10]
インクジェット記録材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012070339A1
,2014-05-19
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