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二次元の拡大を伴う導光光学素子を含む光学システム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240002768
申请日
:
2024-01-11
公开(公告)号
:
JP7546988B2
公开(公告)日
:
2024-09-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B27/02
IPC分类号
:
H04N5/64
H04N13/344
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
二次元の拡大を伴う導光光学素子を含む光学システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7424635B2
,2024-01-30
[2]
二次元の拡大を伴う導光光学素子を含む光学システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022517151A
,2022-03-07
[3]
二次元拡大型導光光学素子を含む光学システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7563781B2
,2024-10-08
[4]
二次元拡大型導光光学素子を含む光学システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2023519788A
,2023-05-15
[5]
二次元の拡大を伴う導光光学素子を含むディスプレイ[ja]
[P].
日本专利
:JP2024516357A
,2024-04-15
[6]
二次元の拡張を有する導光光学素子を含む光学システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7407458B2
,2024-01-04
[7]
二次元の拡張を有する導光光学素子を含む光学システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2021535444A
,2021-12-16
[8]
二次元の拡張を有する導光光学素子を含む光学システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7788167B2
,2025-12-18
[9]
金属−二次元物質−半導体の接合を含む半導体素子[ja]
[P].
日本专利
:JP6918442B2
,2021-08-11
[10]
二次元コード、二次元コードの解析システム及び二次元コードの作成システム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015174192A1
,2017-04-20
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