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テキスタイルのための高分子沈着および付着プロセス[ja]
被引：0
申请号：
JP20230542936
申请日：
2022-01-14
公开(公告)号：
JP2024504952A
公开(公告)日：
2024-02-02
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
A47G27/02
IPC分类号：
D06M15/263
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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