共 50 条
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キレート剤を含む酸化物系基板の研磨用組成物[ja]
被引：0
申请号：
JP20220066245
申请日：
2022-04-13
公开(公告)号：
JP2023156721A
公开(公告)日：
2023-10-25
发明(设计)人：
OMORI HISASHI
IWAMI EIICHIRO
OKUNAGA TOMOKI
申请人：
NISSAN CHEMICAL CORP
申请人地址：
IPC主分类号：
C09K3/14
IPC分类号：
C09G1/02
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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