同位体修飾成分及びその治療上の使用[ja]

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申请号
JP20220130995
申请日
2022-08-19
公开(公告)号
JP7464661B2
公开(公告)日
2024-04-09
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
A61K31/201
IPC分类号
A61K31/122 A61K31/16 A61K31/202 A61K31/231 A61K31/232 A61K31/355 A61K31/375 A61K31/5575 A61K47/08 A61K47/22 A61P9/00 A61P25/00 A61P25/16 A61P25/28 A61P27/02 A61P35/00 A61P43/00
代理机构
代理人
法律状态
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共 50 条
[1]
同位体修飾成分及びその治療上の使用[ja] [P]. 
日本专利 :JP7132630B2 ,2022-09-07
[2]
同位体修飾成分及びその治療上の使用[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022166245A ,2022-11-01
[3]
同位体修飾成分及びその治療上の使用[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020500193A ,2020-01-09
[4]
同位体修飾された組成物およびその治療的使用[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019521083A ,2019-07-25
[5]
[8]
[9]
同位体分子の分離及び濃縮[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016527079A ,2016-09-08
[10]
鉛-212同位体の産生のための方法及び装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024535765A ,2024-10-02