ＳＭＮ２を調節するための化合物及び方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220544263

申请日：

2021-02-26

公开(公告)号：

JP7446443B2

公开(公告)日：

2024-03-08

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C12N15/113

IPC分类号：

A61K31/712 A61K31/7125 A61P21/00

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共 50 条

[1]

ＳＭＮ２を調節するための化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP7696466B2 ,2025-06-20

[2]

ＳＭＮ２を調節するための化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025134750A ,2025-09-17

[3]

ＳＭＮ２を調節するための化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023511895A ,2023-03-23

[4]

ＳＭＮ２の調節のための化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023027285A ,2023-03-01

[5]

ＳＭＮ２の調節のための化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP7197463B2 ,2022-12-27

[6]

ＳＭＮ２の調節のための化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019525918A ,2019-09-12

[7]

ＳＭＮ２の調節のための化合物及び方法[ja] [P].

FRANK RIGO ;

PRAKASH THAZHA P ;

SETH PUNIT P .

日本专利 :JP2025063137A ,2025-04-15

[8]

ＦＸＲを調節するための化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024501700A ,2024-01-15

[9]

ＳＭＮ２スプライシングの調節のための化合物[ja] [P].

日本专利 :JP2014533944A ,2014-12-18

[10]

ＡＴＸＮ１を調節するための化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP7738573B2 ,2025-09-12

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