干渉計システム、ポジショニングシステム、リソグラフィ装置、ジッタ判定方法、デバイス製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230542689

申请日：

2021-12-12

公开(公告)号：

JP2024503057A

公开(公告)日：

2024-01-24

发明(设计)人：

申请人：

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IPC主分类号：

G03F7/20

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共 50 条

[1]

リソグラフィ装置コントローラシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2025504833A ,2025-02-19

[2]

電力支援式ステアリングシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2016532593A ,2016-10-20

[3]

ライトシステムインタフェース及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017524233A ,2017-08-24

[4]

コンピューティングシステムパーティション生成器[ja] [P].

日本专利 :JP2025531495A ,2025-09-19

[5]

発話タイミング推定システムおよび対話システム、並びにプログラム[ja] [P].

日本专利 :JP2025003232A ,2025-01-09

[6]

分析システム、分析方法、及びプログラム[ja] [P].

TAKEUCHI MOE ;

WATANABE MOTOFUMI ;

FURUKAWA KEI ;

SATAKE HIROYOSHI ;

MAKIZUMI TOSHIYUKI .

日本专利 :JP2024017172A ,2024-02-08

[7]

リアルタイムトーンマッピングのためのシステム及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018531447A ,2018-10-25

[8]

アンテナシステム、キャリブレーションユニット及びキャリブレーション方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022521352A ,2022-04-06

[9]

スラリーを生成するシステム及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022502211A ,2022-01-11

[10]

データ変換システムおよび方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019518397A ,2019-06-27

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