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シリコン接合体の製造方法、および、シリコン接合体[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220068142
申请日
:
2022-04-18
公开(公告)号
:
JP2023158353A
公开(公告)日
:
2023-10-30
发明(设计)人
:
KATASE TAKUMA
TANAKA TERUKI
SHIONO ICHIRO
申请人
:
MITSUBISHI MAT CORP
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B33/02
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリコーンゴム接合体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017122506A1
,2018-11-01
[2]
シリコン複合体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024530098A
,2024-08-16
[3]
シリコーン重合体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017122465A1
,2018-11-08
[4]
シリコーン重合体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6795800B1
,2020-12-02
[5]
シリコーン重合体の製造方法[ja]
[P].
OGAWA RYUJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TORAY FINECHEMICALS CO LTD
TORAY FINECHEMICALS CO LTD
OGAWA RYUJI
;
MURANO HARUO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TORAY FINECHEMICALS CO LTD
TORAY FINECHEMICALS CO LTD
MURANO HARUO
;
KATO HIDETOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TORAY FINECHEMICALS CO LTD
TORAY FINECHEMICALS CO LTD
KATO HIDETOSHI
.
日本专利
:JP2024136756A
,2024-10-04
[6]
シリコン部材、および、シリコン部材の製造方法[ja]
[P].
NISHIMURA KAZUYASU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
MITSUBISHI MATERIALS CORP
MITSUBISHI MATERIALS CORP
NISHIMURA KAZUYASU
.
日本专利
:JP2024143019A
,2024-10-11
[7]
シリコン基板の製造装置、製造方法及びシリコン基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008090864A1
,2010-05-20
[8]
シリコン材料およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016199358A1
,2018-04-05
[9]
シリコンブロックおよびシリコンウェハの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006120736A1
,2008-12-18
[10]
シリコン酸化膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005078784A1
,2008-01-17
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