シリコンウェーハ及びシリコンウェーハの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230061727

申请日：

2023-04-05

公开(公告)号：

JP2024148525A

公开(公告)日：

2024-10-18

发明(设计)人：

MAEDA SUSUMU SUDO HARUO MATSUMURA TAKASHI

申请人：

GLOBALWAFERS JAPAN CO LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

C30B29/06

IPC分类号：

C30B33/02 H01L21/322

代理机构：

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共 50 条

[1]

シリコンウェーハ中の重金属不純物固溶限界濃度測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6489442B2 ,2019-03-27

[2]

多結晶シリコン製造装置および多結晶シリコンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012098598A1 ,2014-06-09

[3]

セリシン−リン酸銅ハイブリッド構造体及びその製造方法並びに重金属イオン吸着剤[ja] [P].

日本专利 :JP6598234B2 ,2019-10-30

[4]

多線源インモーショントモシンセシスイメージングシステムのためのＸ線マルチリーフ動的コリメーション[ja] [P].

日本专利 :JP2024513188A ,2024-03-22

[5]

ポリウレタン弾性糸およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009011189A1 ,2010-09-16

[6]

タッチスクリーンおよびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015513752A ,2015-05-14

[7]

精製アントシアニンの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008111589A1 ,2010-06-24

[8]

タッチスクリーン及びタッチスクリーンの導電層[ja] [P].

日本专利 :JP2015513753A ,2015-05-14

[9]

二重金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒を用いたエポキシ官能性アルコキシシランのアルコキシル化による、アルコキシシリル基を有する新規なポリエーテルアルコールおよびその調製方法[ja] [P].

日本专利 :JP5698899B2 ,2015-04-08

[10]

水酸化マグネシウムの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025142855A ,2025-10-01

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