複雑なＲＦパルスパターンを提供するラジオ波生成器[ja]

被引：0

申请号：

JP20230571503

申请日：

2022-04-17

公开(公告)号：

JP2024522468A

公开(公告)日：

2024-06-21

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H05H1/46

IPC分类号：

H01L21/3065

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共 50 条

[1]

複雑なＲＦパルスパターンを提供するラジオ波生成器[ja] [P].

日本专利 :JP7696016B2 ,2025-06-19

[2]

ＭＲＩシステムにおいて側波帯域を抑制するための方法、コンピュータプログラム、ＲＦパルス生成器、該ＲＦパルス生成器を含むＭＲＩシステム[ja] [P].

日本专利 :JP6608435B2 ,2019-11-20

[3]

マイクロ波パルス生成器及び量子コンピュータ[ja] [P].

NORIMATSU TAKAYASU ;

WACHI YUSUKE ;

SUGANO YUSUKE .

日本专利 :JP2024163701A ,2024-11-22

[4]

充電を用いる多重チャネル電流パルス生成器[ja] [P].

日本专利 :JP2022502923A ,2022-01-11

[5]

充電を用いる多重チャネル電流パルス生成器[ja] [P].

日本专利 :JP7560448B2 ,2024-10-02

[6]

自動レベル制御付きラジオ波生成器[ja] [P].

日本专利 :JP7712396B2 ,2025-07-23

[7]

自動レベル制御付きラジオ波生成器[ja] [P].

日本专利 :JP2024522980A ,2024-06-25

[8]

光パターン生成器、照明装置、車両、及びそのような照明装置を制御する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025519389A ,2025-06-26

[9]

プロセッシング装置及びスウィズルパターン生成器[ja] [P].

日本专利 :JP2014530408A ,2014-11-17

[10]

溶媒和ナノクラスターを製造する方法及び生成器[ja] [P].

日本专利 :JP2024535660A ,2024-10-02

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