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粒子線照射システム及び粒子線照射方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20230045073
申请日：
2023-03-22
公开(公告)号：
JP2024134729A
公开(公告)日：
2024-10-04
发明(设计)人：
EGUCHI MINA
NOMURA TAKUYA
申请人：
HITACHI LTD
申请人地址：
IPC主分类号：
A61N5/10
IPC分类号：
H05H13/04
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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