高分子処理用工程液[ja]

被引:0
申请号
JP20210200074
申请日
2021-12-09
公开(公告)号
JP7346532B2
公开(公告)日
2023-09-19
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
C11D7/28 C11D7/32 C11D7/34 C11D7/50
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
高分子処理用工程液組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP7367103B2 ,2023-10-23
[2]
高分子処理剤[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016137007A1 ,2017-04-27
[3]
高分子処理剤[ja] [P]. 
日本专利 :JP6211222B2 ,2017-10-11
[4]
高分子処理剤[ja] [P]. 
日本专利 :JP6173638B2 ,2017-08-02
[5]
高分子処理剤[ja] [P]. 
日本专利 :JP6144446B2 ,2017-06-07
[6]
高分子水処理膜[ja] [P]. 
日本专利 :JP5798914B2 ,2015-10-21
[7]
高分子水処理膜[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011004786A1 ,2012-12-20
[8]
高分子水処理膜及び水処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5890971B2 ,2016-03-22
[9]
導電性高分子の処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007099889A1 ,2009-07-16
[10]
合成高分子膜の表面処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6420931B1 ,2018-11-07