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電子ビーム照射装置、描画装置及び検査装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190212486
申请日
:
2019-11-25
公开(公告)号
:
JP7356329B2
公开(公告)日
:
2023-10-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01J37/06
IPC分类号
:
G03F7/20
G21K5/04
H01J37/305
H01L21/027
H01L21/66
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7624829B2
,2025-01-31
[2]
電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6398961B2
,2018-10-03
[3]
電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6221999B2
,2017-11-01
[4]
マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7232057B2
,2023-03-02
[5]
マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射方法、及びマルチ電子ビーム検査装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7231496B2
,2023-03-01
[6]
マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7198092B2
,2022-12-28
[7]
電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射装置の作動方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6873465B2
,2021-05-19
[8]
電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置、および電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6018386B2
,2016-11-02
[9]
電子ビーム照射装置および電子ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6040920B2
,2016-12-07
[10]
電子ビーム照射装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6529059B1
,2019-06-12
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