基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410611229.2

申请日：

2024-05-16

公开(公告)号：

CN119008453A

公开(公告)日：

2024-11-22

发明(设计)人：

安熙满宋京院刘宰承安率严成勋

申请人：

细美事有限公司

申请人地址：

韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

G03F7/20 G03F7/00 G03F7/40

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人：

张瑾

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-22	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

梶原雄二 .

中国专利 :CN105723496A ,2016-06-29

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

桥本光治 ;

长田直之 .

中国专利 :CN108630573B ,2018-10-09

[3]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理程序 [P].

大塚庆崇 ;

中满孝志 .

中国专利 :CN1828828A ,2006-09-06

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

池田朋生 ;

日高章一郎 .

日本专利 :CN110783228B ,2024-07-30

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

方济午 ;

安迎曙 ;

李承汉 ;

李承桓 ;

金铉玟 .

中国专利 :CN114446825A ,2022-05-06

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

田边万奈 ;

高居康介 ;

增井健二 ;

梅泽华织 .

日本专利 :CN111696884B ,2024-01-16

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

本田拓巳 ;

山下浩司 ;

田原真二 ;

百武宏展 .

日本专利 :CN110010520B ,2024-03-26

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

金康卨 ;

金兑根 ;

崔俊熙 ;

李炅珉 ;

金容准 .

韩国专利 :CN118116835A ,2024-05-31

[9]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

太田直希 ;

宫内国男 ;

内田博章 ;

飨场康 .

日本专利 :CN117529135A ,2024-02-06

[10]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

仙波昌平 ;

吹野康彦 .

中国专利 :CN103426746A ,2013-12-04

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