基材の親水化処理方法及び親水性改質基材[ja]

被引：0

申请号：

JP20230088966

申请日：

2023-05-30

公开(公告)号：

JP7495766B1

公开(公告)日：

2024-06-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B05D5/00

IPC分类号：

B05D7/24 B32B27/00 B32B38/18 C08F20/58 C08F20/60 C08J7/056 C09K3/00

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共 50 条

[1]

改質基材および改質基材の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004018085A1 ,2005-12-08

[2]

改質基材および改質基材の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006104117A1 ,2008-09-11

[3]

親水化剤、親水化剤を含む組成物及び高分子多孔質膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016133206A1 ,2017-11-24

[4]

親水化剤、親水化剤を含む組成物及び高分子多孔質膜[ja] [P].

日本专利 :JP6760359B2 ,2020-09-23

[5]

親水化剤、親水化剤を含む組成物及び高分子多孔質膜[ja] [P].

日本专利 :JP6485539B2 ,2019-03-20

[6]

親水性高分子コロイド物質の排水処理[ja] [P].

日本专利 :JP5728662B2 ,2015-06-03

[7]

親水性多孔質炭素電極及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019159945A1 ,2021-02-04

[8]

膜形成基材の製造方法、膜形成基材及び表面処理剤[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019082681A1 ,2020-04-16

[9]

再生重油の改質処理方法[ja] [P].

KOMURA YOJI ;

NAKAGAWA HIROBUMI .

日本专利 :JP2024168051A ,2024-12-05

[10]

親水性材料及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003031533A1 ,2005-01-20

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