光偏转器及光扫描装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010473622.1

申请日：

2020-05-29

公开(公告)号：

CN112034614B

公开(公告)日：

2024-11-19

发明(设计)人：

宫地护

申请人：

斯坦雷电气株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G02B26/08

IPC分类号：

G02B26/10

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

朱丽娟;崔成哲

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-19	授权	授权

共 50 条

[1]

光偏转器及光扫描装置 [P].

宫地护 .

中国专利 :CN112034614A ,2020-12-04

[2]

光偏转器、光偏转器的制造方法及光扫描装置 [P].

水谷秀次 .

中国专利 :CN104216108A ,2014-12-17

[3]

光偏转器、光扫描装置及图像形成装置 [P].

水谷秀次 .

中国专利 :CN104216109A ,2014-12-17

[4]

MEMS光偏转器和光扫描装置 [P].

中村奖 .

日本专利 :CN117616321A ,2024-02-27

[5]

光偏转器、光扫描装置、以及图像形成装置 [P].

伊丹幸男 ;

今井重明 ;

增田宪介 .

中国专利 :CN102162916B ,2011-08-24

[6]

光偏转器 [P].

田中春辉 .

日本专利 :CN120077314A ,2025-05-30

[7]

光偏转器及其制造方法、光扫描装置、以及图像形成装置 [P].

伊丹幸男 ;

门胁纪之 ;

小关和宏 ;

菊地健 ;

远藤真 ;

儿岛秀俊 ;

高桥由博 ;

安部隆雄 ;

篁智隆 ;

畑山正男 .

中国专利 :CN100465694C ,2007-07-04

[8]

光偏转器的制造方法及光偏转器 [P].

千叶广文 .

日本专利 :CN114026484B ,2024-09-10

[9]

光扫描装置 [P].

松丸直也 .

日本专利 :CN120981755A ,2025-11-18

[10]

光偏转器 [P].

浅利友隆 .

中国专利 :CN115343840A ,2022-11-15

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